Efecto de la aplicación de silicio en la germinación de semillas de pimienta bajo estrés salino

Resumen

El objetivo del presente estudio fue evaluar la germinación de las semillas de Naga Jolokia (Capsicum chinense Jacq.) Bajo estrés salino con el efecto de aplicar dosis de silicio. El diseño experimental utilizado fue completamente al azar, con nueve tratamientos (dosis de NaCl asociadas con silicio) y cuatro repeticiones, que consta de 36 unidades experimentales. Para el estrés salino, se usaron concentraciones de cloruro de sodio a dosis de 0; 3,5 y 4,5 dS m^-1, y se utilizó dióxido de silicio como fuente de silicio, con las siguientes dosis aplicadas: 0, 30 y 60 g de silicio 100 kg semillas^-1. Los análisis realizados fueron plántulas anormales, plántulas muertas, germinación, índice de velocidad de germinación, longitud del tallo y raíz y masa fresca y seca. Los resultados del análisis de varianza mostraron una diferencia significativa para los tratamientos (P>0,05), para plántulas anormales, plántulas muertas, germinación, índice de velocidad de emergencia y masa seca de plántulas, lo que indica un efecto positivo de la aplicación de silicio. concluyendo que las condiciones de alta salinidad influyen negativamente en las variables observadas, sin embargo, en los tratamientos con salinidad, la adición de silicio ayuda a atenuar el estrés en la planta.